●Intel欲將193nm沉浸式光刻技術延用
在LithoVision2010大會上，Intel公司(si)公布了(le)其未(wei)來(lai)幾年的(de)光(guang)刻技(ji)術發展計劃(hua)，按這(zhe)份驚人(ren)的(de)計劃(hua)顯示，Intel計劃(hua)將193nm波長沉浸式光(guang)刻技(ji)術延用至(zhi)11nm制程(cheng)節(jie)點，這(zhe)表明他們再(zai)次(ci)后延了(le)其極(ji)紫(zi)外光(guang)刻(EUV)技(ji)術的(de)啟用日期。
根據會上Intel展示的光(guang)刻(ke)技術發展路線圖顯示，目(mu)前Intel45nm制(zhi)(zhi)程(cheng)工(gong)(gong)藝中(zhong)使用的仍是193nm干式光(guang)刻(ke)技術，而32nm制(zhi)(zhi)程(cheng)工(gong)(gong)藝則使用的是193nm沉浸式光(guang)刻(ke)技術，沉浸式光(guang)刻(ke)工(gong)(gong)具方面，Intel從去年開始便獨家使用尼康(kang)公司的193nm沉浸式光(guang)刻(ke)機制(zhi)(zhi)造(zao)32nm制(zhi)(zhi)程(cheng)產品。此前曾有傳言(yan)稱(cheng)臺積電(dian)最近(jin)也購買了(le)(le)尼康(kang)公司的193nm沉浸式光(guang)刻(ke)設備，不過雙方后(hou)來矢口(kou)否認了(le)(le)這一傳言(yan)。
過(guo)去Intel曾計(ji)劃在22nm制(zhi)程節(jie)點(dian)轉向EUV技(ji)術，并計(ji)劃明年開始(shi)采用這(zhe)種技(ji)術。不過(guo)據Intel負責高(gao)級(ji)光(guang)刻技(ji)術的(de)高(gao)管YanBorodovsky表示，Intel目前還沒有(you)做(zuo)好在22/15nm制(zhi)程節(jie)點(dian)引入(ru)EUV技(ji)術的(de)準(zhun)備。他并表示Intel將在22nm制(zhi)程節(jie)點(dian)繼續使用193nm沉浸式光(guang)刻技(ji)術。
EUV技術(shu)在Intel的(de)實戰(zhan)中取得成果
Intel還在會上表(biao)示(shi)他(ta)們有能力將193nm沉浸式光刻(ke)技(ji)術延用至15nm制程節(jie)點，也就是說(shuo)這項技(ji)術的(de)壽命可望延續(xu)到2013年左右(you)，Borodovsky并認為，按照目前的(de)情(qing)況看(kan)來(lai)，193nm沉浸式光刻(ke)+pitchdivision的(de)工藝組合(he)才是實現15nm制程產(chan)品量(liang)產(chan)的(de)“唯一(yi)選(xuan)擇”。
不過(guo)他表示,在15nm節點制程處，Intel將“首先采用EUV技術(shu)進行試(shi)產(chan)，假如(ru)屆時無掩模(mo)技術(shu)已經(jing)成熟，那么我們還(huan)會采用這種技術(shu)進行試(shi)產(chan)。”
在(zai)接下來的11nm制程節點中，Intel仍有計(ji)劃想(xiang)在(zai)五重掩模(mo)技術（fivemask）的配合下繼續(xu)延(yan)用193nm沉浸式光(guang)刻技術，Borodovsky稱(cheng)：“193nm沉浸式光(guang)刻技術應可(ke)在(zai)五重掩模(mo)技術的配合下滿足11nm制程的要(yao)求。”
據Intel表(biao)示(shi)，11nm制(zhi)程(cheng)節點上該公司的(de)光(guang)刻(ke)技術將采用多種(zhong)光(guang)刻(ke)工(gong)藝互(hu)補混(hun)搭的(de)策略，將193nm沉浸式光(guang)刻(ke)技術與EUV,無掩模(mo)光(guang)刻(ke)（maskless）等技術混(hun)合(he)在一(yi)起(qi)來滿足(zu)11nm制(zhi)程(cheng)的(de)需求。
目前(qian)還不(bu)清(qing)楚(chu)Intel最終會采用EUV或無(wu)掩模(mo)光刻技(ji)術(shu)中的(de)(de)哪一種，Intel表(biao)示留(liu)給EUV技(ji)術(shu)最終成熟的(de)(de)時(shi)間點是(shi)在2011/2012年(nian)前(qian)；而(er)留(liu)給無(wu)掩模(mo)技(ji)術(shu)的(de)(de)時(shi)間點則(ze)是(shi)在2012年(nian)以(yi)前(qian)。而(er)其(qi)EUV領域的(de)(de)主(zhu)要競爭(zheng)對手三(san)星公司將EUV技(ji)術(shu)投入實用的(de)(de)時(shi)間點也同樣定在了2012年(nian)前(qian)。