●IBM對于EUV的態度和布局
IBM公司近日(ri)宣布了其光(guang)刻技(ji)術戰略，表示(shi)將把其193nm沉(chen)浸(jin)式光(guang)刻縮小到(dao)22納米節(jie)點，以實現大量(liang)生產。換個(ge)角度看來(lai)，由于(yu)超紫(zi)外線（EUV）光(guang)刻技(ji)術還不能用于(yu)22nm節(jie)點邏輯的早期開發工作，該技(ji)術將在(zai)22nm工藝中再次被拋棄。
這對(dui)于(yu)EUV技(ji)術的(de)擁護者來說(shuo)無(wu)疑(yi)是個不好(hao)的(de)征兆，他(ta)們本希望能在(zai)2009年將EUV這種下一代(dai)光刻技(ji)術應用于(yu)32節點中。另外，這一事件還對(dui)EUV是否已經就(jiu)位(wei)，或(huo)者說(shuo)它(ta)的(de)可用性提(ti)出了更多疑(yi)問，它(ta)本來就(jiu)已經由于(yu)人(ren)力資源、光刻膠等重要因素的(de)缺乏而(er)舉步維艱了。
造(zao)價高(gao)昂的(de)EUV光刻系統
而且，一(yi)套EUV工(gong)(gong)具(ju)(ju)的價格可能高達4000萬到6000萬美元(yuan)。業界希望EUV工(gong)(gong)具(ju)(ju)能夠幫助(zhu)其盡快進入量產，但這一(yi)技術(shu)還未完(wan)全成熟。IBM公(gong)司(si)著名工(gong)(gong)程師、光(guang)刻技術(shu)開(kai)發(fa)總監(jian)GeorgeGomba表(biao)示：IBM也一(yi)直在(zai)開(kai)發(fa)EUV、沉(chen)浸式、直寫(xie)等下(xia)一(yi)代光(guang)刻技術(shu)（NGL）。在(zai)它位于紐約(yue)州(zhou)EastFishkill的領先的300納米(mi)工(gong)(gong)廠(chang)里，IBM公(gong)司(si)已經采用了來(lai)自ASML Holding NV公(gong)司(si)的193nm光(guang)學。
業界普遍認為(wei)IBM將繼續和(he)這家(jia)荷蘭公司合(he)作(zuo)。IBM沒有就其合(he)作(zuo)廠商發表評(ping)論。Gomba表示，IBM目前正采用(yong)“干式(shi)(shi)”193納米沉(chen)浸式(shi)(shi)光(guang)(guang)刻工具生產(chan)65節(jie)點邏輯芯片。接下來，IBM將把193nm光(guang)(guang)刻擴展到45nm節(jie)點（65nm半間距）。在該(gai)節(jie)點上，IBM將采用(yong)一(yi)個193nm的(de)沉(chen)浸式(shi)(shi)和(he)據稱由ASML公司提供(gong)的(de)1.2的(de)數字孔(kong)徑。
在45nm節(jie)點之后，IBM還將(jiang)把193nm沉浸(jin)式光(guang)刻擴(kuo)展到32納米節(jie)點（45納米半間距）。在這一節(jie)點上，IBM將(jiang)試用(yong)單圖形(xing)和雙圖形(xing)工藝，并采用(yong)一個帶有1.35NA透(tou)鏡的(de)掃描(miao)器。令人意外的(de)是，IBM還表示將(jiang)在2011年將(jiang)沉浸(jin)式光(guang)刻縮放(fang)至22nm節(jie)點。IBM認為193nm沉浸(jin)式光(guang)刻是能夠滿足22節(jie)點的(de)2年周(zhou)期和要求的(de)唯(wei)一方(fang)案。
有(you)專家表示，目前的(de)(de)193nm沉浸式光刻折射(she)率為(wei)1.4，還只能以(yi)40納米(mi)工藝生產。為(wei)了突破(po)這一障(zhang)礙，IBM將運(yun)用(yong)一個采用(yong)了雙(shuang)圖形技(ji)術的(de)(de)先進(jin)的(de)(de)193nm沉浸式掃描(miao)器，以(yi)及分辨率增強技(ji)術和OPC。Gomba指(zhi)出：“我們在試用(yong)各種不同的(de)(de)雙(shuang)圖形工藝。”
至于EUV技術，IBM認為這項(xiang)技術還不能(neng)(neng)(neng)用于22nm的早(zao)期開發工作。IBM希望(wang)EUV能(neng)(neng)(neng)接近22納米節點(dian)，但這一技術要到2009年才能(neng)(neng)(neng)最終成熟。迄今為止，ASML公司已經銷售了兩款相當早(zao)期的“試用型”EUV工具(ju)，一個提供(gong)給了IMEC公司，另一個給了AlbanyNanotech公司。這家荷蘭(lan)公司將給三(san)星提供(gong)一款“預生產”型EUV設備，并可能(neng)(neng)(neng)給英特爾也(ye)提供(gong)一套。尼康(kang)和佳能(neng)(neng)(neng)也(ye)在開發EUV。