●光波的特性與蝕刻
在(zai)了解(jie)幾種目前(qian)活躍的光刻技(ji)術之前(qian)，我們先來(lai)了解(jie)光波(bo)的特(te)性。光波(bo)有多種頻(pin)率(lv)。頻(pin)率(lv)是(shi)指任意時間間隔(ge)內（通常為一秒(miao)(miao)鐘）通過空間中某一點的波(bo)數。它的計量單(dan)位(wei)是(shi)周（波(bo)）/秒(miao)(miao)，或赫(he)茲(zi)（Hz）。可(ke)見光的頻(pin)率(lv)稱為顏色(se)，范圍是(shi)430萬(wan)億Hz（紅(hong)色(se)）到750萬(wan)億Hz（紫羅蘭(lan)色(se)）。當然，頻(pin)率(lv)的總范圍超(chao)出可(ke)見光譜之外，從不足十億Hz的無線電波(bo)到超(chao)過30億Hz的伽馬射線。
光波的頻率與能量
如上文所述，光(guang)(guang)(guang)波是(shi)能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)波。光(guang)(guang)(guang)波的能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)大小與其頻(pin)率(lv)成一定(ding)比例：高(gao)頻(pin)光(guang)(guang)(guang)的能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)較高(gao)，低頻(pin)光(guang)(guang)(guang)的能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)較低。因此，伽馬射線的能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)最(zui)高(gao)，無線電波的能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)最(zui)低。在可見光(guang)(guang)(guang)中，紫光(guang)(guang)(guang)能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)最(zui)大，而紅光(guang)(guang)(guang)能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)最(zui)小。
EUV極端遠紫外光所(suo)處的位置(zhi)
上(shang)圖中(zhong)，我們可以明(ming)確看到EUV極端遠(yuan)紫外光(guang)在光(guang)譜中(zhong)的(de)位置，這是一種波長極短的(de)光(guang)刻(ke)技術(shu)，其(qi)曝光(guang)波長大約為13.5nm。按照目前理(li)論上(shang)認為的(de)波長與蝕刻(ke)精(jing)度(du)關系，EUV技術(shu)能夠蝕刻(ke)出5nm以下工藝的(de)晶體管(guan)。
隨著集成電路產品技術(shu)(shu)需求的(de)提(ti)升，光(guang)刻技術(shu)(shu)也不斷地(di)提(ti)高分辨率，以制作更微細的(de)器件尺寸。全球(qiu)光(guang)刻技術(shu)(shu)的(de)進程。傳(chuan)統上(shang)提(ti)高光(guang)刻技術(shu)(shu)的(de)分辨率無(wu)非是(shi)縮短曝光(guang)波(bo)長及增大(da)的(de)數值孔徑NA，通常(chang)縮短波(bo)長是(shi)最有效的(de)方法之一。
但是(shi)目前(qian)(qian)在縮(suo)短波(bo)長方面，各家光刻設(she)備商都(dou)遇到的(de)困境，或者說縮(suo)短波(bo)長已經成為整個行業最大的(de)挑戰(zhan)。在各種(zhong)活躍(yue)的(de)光刻技(ji)術(shu)(shu)(shu)中(zhong)，EUV技(ji)術(shu)(shu)(shu)擁(yong)有最短的(de)曝光波(bo)長，但是(shi)目前(qian)(qian)推進非常艱(jian)難，而193nm傳統(tong)光學光刻技(ji)術(shu)(shu)(shu)雖然老邁(mai)，但是(shi)加入了沉浸式技(ji)術(shu)(shu)(shu)配(pei)合之后(hou)，已經能夠(gou)延伸到22nm左右工(gong)藝中(zhong)。