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新聞資訊

【兆恒機械】微流控芯片的加工方法

【兆恒機械】微流控芯片的加工方法.

MEMS技(ji)術是u-TAS發展的基礎,也是微(wei)流(liu)控(kong)芯(xin)片加(jia)工(gong)中最廣泛采用(yong)的方法(fa)。MEMS加(jia)工(gong)技(ji)術包括了常規平面(mian)工(gong)藝中的光刻、氧化、擴散(san)、化學(xue)氣相沉積(ji)(chemical vapor deposi

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【兆恒機械】原子級工藝實現納米級圖形結構的要求

【兆恒機械】原子級工藝實現納米級圖形結構的要求.

技(ji)術(shu)節點的每次進(jin)(jin)(jin)步都要求對制(zhi)(zhi)造工藝(yi)變(bian)化進(jin)(jin)(jin)行更(geng)嚴(yan)格的控制(zhi)(zhi)。最先進(jin)(jin)(jin)的工藝(yi)現(xian)在可以達到(dao)僅7nm的fin寬度,比30個硅(gui)原(yuan)子稍大一點。半導體制(zhi)(zhi)造已(yi)經跨越了從納米級(ji)到(dao)原(yuan)子

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【兆恒機械】MEMS 器件刻蝕工藝優化

【兆恒機械】MEMS 器件刻蝕工藝優化.

從(cong)廣義來講,MEMS是指集(ji)微(wei)型(xing)傳感器(qi)、微(wei)型(xing)執(zhi)行器(qi)以及信號處理(li)和控(kong)制電(dian)路、接(jie)口電(dian)路、通(tong)信和電(dian)源于一體的(de)完整(zheng)微(wei)型(xing)機電(dian)系統。它可以把運動、光(guang)、聲、熱、磁等(deng)自然界(jie)信

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【兆恒機械】CMOS工藝流程詳解

【兆恒機械】CMOS工藝流程詳解.

CMOS工藝流程介紹1.襯(chen)底選擇(ze):選擇(ze)合適的(de)襯(chen)底,或者外(wai)延(yan)片,本流程是帶外(wai)延(yan)的(de)襯(chen)底;2.?開始:Pad?oxide氧化,如果直接淀(dian)積氮(dan)化硅,氮(dan)化硅對襯(chen)底應力(li)過(guo)大,容易出(chu)問題;接著

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【兆恒機械】金剛線切割單晶硅片的PERC電池背拋光研究

【兆恒機械】金剛線切割單晶硅片的PERC電池背拋光研究.

摘 要:研究一種實(shi)現背面(mian)拋(pao)光的方(fang)法,在制(zhi)(zhi)絨(rong)(rong)工(gong)序中(zhong)以氮化硅(gui)為掩膜,對金剛線切割(ge)單(dan)晶硅(gui)片(pian)進行單(dan)面(mian)制(zhi)(zhi)絨(rong)(rong),該掩膜在制(zhi)(zhi)絨(rong)(rong)工(gong)序中(zhong)被HF 酸(suan)去除。未(wei)制(zhi)(zhi)絨(rong)(rong)面(mian)作(zuo)為背鈍化電池背拋(pao)

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【兆恒機械】碳化硅元器件的昨天、今天、明天!

【兆恒機械】碳化硅元器件的昨天、今天、明天!.

碳化(hua)硅(gui)元(yuan)器件(jian)的昨天(tian)、今天(tian)、明天(tian)!來源:寬(kuan)禁帶半(ban)導體(ti)技術(shu)創新聯(lian)盟(meng)【導讀(du)】碳化(hua)硅(gui)(SiC)是用石英砂(sha)、石油焦(或煤焦)、木屑為原料通過電(dian)阻爐高溫冶(ye)煉而成。碳化(hua)硅(gui)在(zai)大

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【兆恒機械】SiC器件與Si技術對比優勢及在電動汽車牽引逆變器等應用中的趨勢

【兆恒機械】SiC器件與Si技術對比優勢及在電動汽車牽引逆變器等應用中的趨勢.

SiC的應(ying)用始(shi)于2000年,最早在PFC中(zhong)采用了SiC?JBS二極管(guan)(guan)。隨后是在光(guang)伏行(xing)業中(zhong),開始(shi)使用SiC二極管(guan)(guan)和FET。但是,最近(jin)在EV車載充電器(qi)和DC-DC轉換器(qi)相關領域應(ying)用的激增,

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【兆恒機械】金屬硅化物工藝技術詳解

【兆恒機械】金屬硅化物工藝技術詳解.

隨著集成(cheng)(cheng)電(dian)路工藝(yi)制程技術的(de)不斷(duan)發(fa)展,為了提高集成(cheng)(cheng)電(dian)路的(de)集成(cheng)(cheng)度,同時提升(sheng)器(qi)件的(de)工作(zuo)速(su)度和(he)降低(di)它的(de)功(gong)耗,半導體工藝(yi)的(de)特(te)征尺寸不斷(duan)縮小,晶體管的(de)柵、源和(he)漏有源區

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【兆恒機械】摻磷多晶硅的干法刻蝕工藝研究

【兆恒機械】摻磷多晶硅的干法刻蝕工藝研究.

碳(tan)化硅(SiC)材(cai)料是目前世界上公認的(de)綠色高(gao)效的(de)新型半導(dao)體材(cai)料,具有寬禁帶(dai)寬度、高(gao)擊(ji)穿電場、高(gao)熱導(dao)率、高(gao)飽(bao)和電子漂移速度、抗輻射(she)能(neng)力強以及化學性質(zhi)穩定等優勢(shi)

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【兆恒機械】薄膜沉積工藝

【兆恒機械】薄膜沉積工藝.

薄(bo)(bo)膜沉積(ji)是(shi)集成電路制造(zao)過程(cheng)中必不可(ke)少的環節(jie),傳(chuan)統(tong)的薄(bo)(bo)膜沉積(ji)工藝主要有 PVD、 CVD 等(deng)氣相(xiang)沉積(ji)工藝:PVD(物理(li)氣相(xiang)沉積(ji)): 在(zai)真空條件下,采用物理(li)方法,將(jiang)材料(liao)源(固體

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