真空電鍍：Vacuum Metalizing，即是(shi)物(wu)理氣(qi)相沉積（PVD），即在真(zhen)空下將原子打到靶(ba)材(cai)(cai)表面上達到鍍膜的目的。最(zui)早運用于光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片，后(hou)來隨(sui)著技(ji)術的改進，延伸到了(le)唱片、磁(ci)盤(pan)、光盤(pan)、手機(ji)外殼、機(ji)械刀具等材(cai)(cai)料上的裝飾鍍膜、材(cai)(cai)料表面改性(xing)等。
| 歸檔 | |
| 中(zhong)文(wen)名 | 真(zhen)空電鍍 |
| 英文名 | Vacuum Metalizing |
| 別稱名 | 物理氣相沉積(ji)（PVD） |
| 技術分類(lei) | 薄膜技術(shu) > 物理氣相沉積(PVD) |
| 下(xia)屬分(fen)類 | 物理(li)氣相(xiang)沉積 （Physical Vapor Deposition，PVD） > 真空蒸(zheng)發（真空蒸(zheng)發） > 磁控濺射（真空濺射） > 離子鍍 （真空(kong)離子鍍） |
工藝特點
| 工藝成本(ben) | 模具費用（無） 單件費用（中） 批量生產（中） |
| 典型應(ying)用 | 反射涂層(ceng)； 消費電子產品(pin)和(he)隔熱板的(de)表(biao)面處理； |
| 產量范(fan)圍 | 單(dan)件到大批量皆可 |
| 質量優勢(shi) | 適合高質(zhi)量，高亮(liang)和產品表面保護層(ceng) |
| 生產效率 | 速度慢，具體取決于設備內靶材存放(fang)量，通常(chang)為(wei)6小時/周期（包括噴漆工序） |
適用材料
幾乎所有金屬、合金、及陶瓷材料。
自然材料會影響真空環境，不適合真空電鍍。
除了自然材料以外，適合真空電鍍的材料包括金屬類材料、軟硬塑料（ABS料、ABS PC料、PC料等等）、復合材料、陶瓷、和玻璃等。
最常用于真空電鍍表面處理的是鋁、其次是銀和銅。
應用領域
真空蒸發應用領域
| 按技術分 | 典型應用 |
| 電阻加熱 | 1）制鏡工業 2）塑料、紙、鋼(gang)板上金屬(shu)化(hua)涂層 |
| 電子束加熱 | 1）光(guang)學工業(ye)（如塑料透鏡(jing)） 2）抗(kang)腐蝕和高溫氧化涂層(ceng) 3）熱障涂層 4）塑料、紙、鋼板上金屬化涂(tu)層 |
| 感應加(jia)熱 | 核(he)工業 |
| 電(dian)弧加熱(re) | 導電(dian)層 |
| 激光加熱 | 超導薄膜 |
真空濺射應用領域
| 按行業分 | 應用分類 | |
| 電子工業 | IC半(ban)導體(ti) | 電極，引(yin)線。絕(jue)緣層，表面鈍化膜(mo) |
| 顯(xian)示元(yuan)件 | 透明導電膜，光色膜，絕緣膜，表面鈍化膜 | |
| 磁記(ji)錄 | 軟(ruan)/硬性磁(ci)膜，磁(ci)頭縫隙材(cai)料(liao)，絕緣層，特殊材(cai)料(liao) | |
| 磁記錄 | 軟/硬性磁膜(mo)，磁頭縫隙材料(liao)，絕緣層(ceng)，特殊材料(liao) | |
| 約瑟夫森元件 | 超(chao)導(dao)膜(mo)，絕緣膜(mo) | |
| 光(guang)電子學 | 光IC | |
| 其(qi)他電子元件(jian) | 電(dian)阻薄膜(mo)(mo)，印刷機薄膜(mo)(mo)熱寫頭，壓(ya)電(dian)薄膜(mo)(mo)，電(dian)極引線 | |
| 太陽(yang)能(neng)利用(yong) | 太陽能電池，選擇吸(xi)收膜(mo)，選擇反射膜(mo) | |
| 光學(xue)應用 | 反(fan)射鏡，光柵 | |
| 機械(xie)、化學應用(yong) | 潤滑，耐(nai)磨損，耐(nai)腐蝕，耐(nai)熱 | |
| 塑料工業 | 塑料(liao)裝飾(shi)，硬(ying)化 | |
真空離子鍍應用領域
| 按應用分 | 材料：典型應用 |
| 表面硬(ying)化 | 型鋼、低(di)碳鋼：模具、機器零件 不銹鋼：手表殼 硬(ying)質(zhi)合金、高(gao)速鋼：刀具、模具 |
| 耐腐蝕 | 高純鋼：飛機、船舶 低碳鋼螺栓：一般(ban)結構用(yong)材料(liao) |
| 裝飾 | 不銹鋼、黃(huang)銅：手表、裝(zhuang)(zhuang)飾品、建筑裝(zhuang)(zhuang)飾 塑料(liao)：著色涂(tu)層(ceng)、塑料(liao)鏡(jing)片(pian)鍍玻璃 |
| 電子工業 | Si薄膜(mo)：導電膜(mo)、集成電路 金(jin)屬：電容 陶瓷、樹脂：印刷板(ban)、薄膜集成電路 銅合金(jin)：觸(chu)點材(cai)料(liao) 石英：耐火陶瓷(ci)—金屬焊(han)接 |
| 光(guang)學 | 玻璃(li)：鏡片耐磨涂層 透明塑料：眼鏡用鏡片(pian) |
| 核能(neng) | 鈾：核反應堆 ZrAI：核聚變(bian)裝置 銅殼體：加速(su)器 |
| 塑料 | ABS塑料(liao)：汽車零件、電器(qi)零件 |
耐高溫 腐蝕 | Ni基或Co基高溫合金(jin)：發(fa)動機(ji)葉片 |
| 耐(nai)熱 | 鋼、不銹鋼：排氣管、耐火金屬材料 |
設計考慮因素
真空電鍍所使用設備通常較為高昂，加上工藝流程復雜，對環境要求高；為此真空電鍍單價比水電鍍昂貴。
真空電鍍受設備內真空環境體積影響，因此(ci)對靶(ba)材尺寸(cun)有(you)一定的(de)要求，不適合(he)大靶(ba)材，常見的(de)真空腔室內(nei)靶(ba)材應小(xiao)于(yu)1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件應小(xiao)于(yu)1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
真空電鍍的工件表面必須保持干燥、光滑，否則會影響處理效果。
真空電鍍可鍍色彩豐富，可以鍍7色，比水電鍍的顏色要豐富，可達到陽極鋁、亮鉻、金、銀、銅和炮銅（一種銅錫合金）等豐富多彩的效果。水電鍍一般只有鍍銅（紅色），鍍鎳（偏黃的銀色），鍍金，鍍銀，鍍槍（黑色，有深黑，淺黑等），鍍鉻（銀白色）等單調色彩。
真空(kong)電鍍(du)是最常見的(de)金屬表面處(chu)理技術。
工藝成本
真空電鍍工藝流程(cheng)復雜(za)，非常依賴人工操作。工件（靶材）需要噴涂、裝卸、再噴涂，并且也取決于工件的(de)復雜(za)度和數(shu)量，所以(yi)人力成(cheng)本很(hen)高。
環境影響
真空環境下輻射小、環境污染小，真空電鍍現為各行業中廣泛應用。
工藝過程詳解（圖文 視頻(pin)）
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步驟：在(zai)工件上(shang)先(xian)噴(pen)一層(ceng)底漆(qi)，再做電鍍(du)。由于(yu)工件是塑料(liao)件，在(zai)注塑時(shi)會(hui)(hui)殘(can)留(liu)空氣泡(pao)，有機氣體，而(er)在(zai)放置時(shi)會(hui)(hui)吸入空氣中的(de)水(shui)(shui)分。另外，由于(yu)塑料(liao)表(biao)面不夠平整(zheng)，直接電鍍(du)的(de)工件表(biao)面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會(hui)(hui)出現氣泡(pao)，水(shui)(shui)泡(pao)等不良狀況(kuang)。噴(pen)上(shang)一層(ceng)底漆(qi)以(yi)后，會(hui)(hui)形成(cheng)一個光滑平整(zheng)的(de)表(biao)面，并且杜絕了塑料(liao)本身(shen)存在(zai)的(de)氣泡(pao)水(shui)(shui)泡(pao)的(de)產生，使得電鍍(du)的(de)效果得以(yi)展現。
真空蒸發鍍工藝流程
工件>鍍前處理>裝件>烘烤>離子轟擊>預熔>蒸發沉積>冷卻>取件>后處理>成品
真空濺射鍍工藝流程
工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤、轟擊>預熔>濺射沉積(ji)>冷卻>取件>后處理>成品
真空離子鍍工藝流程
工件>鍍前處理>裝件>抽真空>烘烤>離子轟擊>離子沉積>冷卻>取件>后處理>成品