光刻膠也稱(cheng)光致抗蝕劑（Photoresist,P.R.）。 1.光(guang)刻膠類(lei)型 凡是在能量束(shu)（光(guang)束(shu)、電子束(shu)、離(li)子束(shu)等）的(de)照射下，以交聯反(fan)應為(wei)主(zhu)的(de)光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)稱(cheng)為(wei)負(fu)性光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)，簡稱(cheng)負(fu)膠(jiao)。 凡是(shi)在能量束（光(guang)束、電子束、離子束等）的照射下，以交聯反應為(wei)主的光(guang)刻膠(jiao)(jiao)稱為(wei)正性光(guang)刻膠(jiao)(jiao)，簡稱正膠(jiao)(jiao)。
1.光刻膠特性 靈敏度 靈敏度(du)太低會(hui)影響生產效率，所以(yi)通常(chang)(chang)希(xi)望(wang)光刻膠(jiao)(jiao)(jiao)有較(jiao)高的靈敏度(du)。但靈敏度(du)太高會(hui)影響分辨(bian)率。通常(chang)(chang)負膠(jiao)(jiao)(jiao)的靈敏度(du)高于正膠(jiao)(jiao)(jiao)。 分辨率 光刻工(gong)藝中影響分(fen)辨率的因(yin)素有：光源、曝光方(fang)式和光刻膠(jiao)(jiao)本身(shen)（包括靈敏(min)度、對比度、顆粒大小、顯影時的溶脹、電子散(san)射等）。通常正(zheng)膠(jiao)(jiao)的分(fen)辨率要高于負膠(jiao)(jiao)。 2.光刻膠材料 光刻膠通常有三種(zhong)成分：感光化(hua)合(he)(he)物、基體(ti)材料和溶劑。在(zai)感光化(hua)合(he)(he)物中有時還包括增感劑。 3.1負性光刻膠(jiao) 主要(yao)有聚肉桂酸系(xi)（聚酯膠）和環化橡膠系(xi)兩大類。 3.2正性(xing)光刻膠(jiao) 主要以(yi)重氮醌為感光化合(he)物，以(yi)酚醛樹脂為基體材料。最常用(yong)的有AZ 系列(lie)光刻膠。正膠的(de)主要優點(dian)是(shi)分辨(bian)率高(gao)，缺(que)點(dian)是(shi)靈敏度、耐刻蝕(shi)性(xing)和(he)附著性(xing)等較差。 3.3 負性電子束光刻膠 為含有(you)環氧基(ji)、乙烯基(ji)或(huo)環硫化(hua)物的聚(ju)合物。 3.4 正(zheng)性(xing)電子束光刻膠 主要為甲基丙烯(xi)甲酯、烯(xi)砜和(he)重氮類這(zhe)三種(zhong)聚(ju)合物。最常用的是PMMA膠。PMMA膠的(de)主要(yao)優點(dian)是(shi)分辨率高。主要(yao)缺(que)點(dian)是(shi)靈敏度低，在高溫(wen)下易(yi)流動，耐干(gan)法刻(ke)蝕性差。 3.雙層光刻(ke)膠(jiao)技術 隨(sui)著線條寬度(du)的(de)(de)不斷縮小，為了防止(zhi)膠(jiao)(jiao)上圖形出(chu)現太大(da)的(de)(de)深(shen)寬比(bi)，提高對比(bi)度(du)，應(ying)該采用很薄(bo)(bo)的(de)(de)光(guang)刻膠(jiao)(jiao)。但薄(bo)(bo)膠(jiao)(jiao)會遇到耐(nai)蝕性的(de)(de)問題。由此出(chu)現了雙層光(guang)刻膠(jiao)(jiao)技(ji)術，也就(jiu)是超分辨(bian)率技(ji)術的(de)(de)組成部分。 |
