10月18-20日舉行的2022年德國法蘭克福光電及激(ji)光展覽會(OPTATEC 2022)展會上,漢諾威激光中心(LZH)展示了3種工業光學領域的未來技術,包括:新一代沉積系統(Spatial ALD)、微型濾波器、多半徑BBM。
圖片來源:漢諾威(wei)激光中心(LZH)
新一代沉積系統Spatial ALD:這一概念與等離子體激活能夠實現更(geng)快(kuai)的光(guang)(guang)(guang)學(xue)涂(tu)層(ceng)速度。該技(ji)術能夠在各種復雜形狀和材質的表面、光(guang)(guang)(guang)學(xue)幾何圖形上更(geng)高(gao)效地均(jun)勻涂(tu)覆光(guang)(guang)(guang)學(xue)保形涂(tu)層(ceng),從(cong)而(er)支持制(zhi)造出高(gao)質量的光(guang)(guang)(guang)學(xue)器件(jian)。這樣的特性(xing)使得Spatial ALD系統(tong)非常適用于汽車照明、VR/AR等代(dai)表性(xing)領域。
該系統有4個(ge)獨立的(de)過程室,由壓力和氮氣(qi)隔開(kai),每一(yi)(yi)個(ge)過程室都完成ALD反應步驟(zou)。之后基板會旋(xuan)轉(zhuan)進入下(xia)一(yi)(yi)個(ge)腔室,并由此實現了(le)更高(gao)的(de)沉積速率。
由于該系統(tong)是基(ji)于等離子(zi)的(de),它(ta)可以在(zai)低(di)于100℃的(de)低(di)溫下運(yun)行(xing),使其特別適(shi)用于涂層溫度(du)敏感的(de)聚(ju)合(he)物光(guang)學元(yuan)(yuan)件,這些光(guang)學元(yuan)(yuan)件通常(chang)用于顯示器。
據介紹,Spatial ALD系統是LZH與芬蘭ALD高端設備廠商Beneq合作研發的,LZH已經從后者那里采購了原子層沉積(ALD)系統。B?ntgen表示:“典(dian)型的(de)(de)(de)ALD機(ji)器相當慢,所(suo)以我們(men)正在努力使(shi)其(qi)(qi)更快,使(shi)其(qi)(qi)與其(qi)(qi)他ALD半(ban)導體工藝兼(jian)容(rong),并使(shi)其(qi)(qi)適應于光學涂(tu)層應用(yong)。”“對于傳統(tong)的(de)(de)(de)表面,如(ru)球(qiu)形涂(tu)層系統(tong),通常會偏向于接受較厚涂(tu)層的(de)(de)(de)一側或區域,但(dan)我們(men)的(de)(de)(de)目標是使(shi)涂(tu)層過程在目標形狀上均勻地(di)傳遞材料,如(ru)在球(qiu)體或圓柱體內部(bu)。”
小型化濾波器:無論(lun)是在電信、量子技術還是生命(ming)科學(xue)領域(yu),小型化濾波器都有許多應用。沒(mei)有襯(chen)底的(de)(de)薄膜濾光片的(de)(de)生產,使得制(zhi)造(zao)非(fei)常小和非(fei)常緊湊的(de)(de)光學(xue)器件成為了可能,例如用于(yu)光子集(ji)成電路。
多半徑寬帶監控器(BBM):這種監(jian)控(kong)器允許光(guang)學(xue)被(bei)精確、有效和可重復地涂覆。科學(xue)家們提(ti)出了(le)一個多半徑的(de)新概念來改進(jin)過程控(kong)制。通過這種方式,可以以最(zui)佳方式遵(zun)循指定(ding)的(de)設計。
在(zai)(zai)BBM和重新設(she)計的相互作用中,光學元件可以非常(chang)精確(que)、高效和高再現性(xing)地進(jin)行涂(tu)覆。涂(tu)層工(gong)藝的在(zai)(zai)線重新設(she)計已(yi)在(zai)(zai)生產中得到(dao)驗證。除了傳輸中的測量之(zhi)外,在(zai)(zai)多個測量路徑上的反射率測量也(ye)可以直接在(zai)(zai)涂(tu)層過程中捕獲(huo)均勻性(xing)。
漢諾威激光(guang)(guang)(guang)中心(LZH)光(guang)(guang)(guang)學元(yuan)件(jian)部門涂(tu)料(liao)集團負責人Tammo B?ntgen表示:“考(kao)慮(lv)到基于無襯(chen)底(di)涂(tu)層材料(liao)的(de)(de)微(wei)型(xing)過(guo)濾(lv)(lv)器(qi),我(wo)們所做的(de)(de)是使(shi)用傳統的(de)(de)離子束(shu)濺射(IBS)涂(tu)層襯(chen)底(di)。然(ran)后(hou),我(wo)們通過(guo)化(hua)學分(fen)離的(de)(de)方(fang)式將(jiang)涂(tu)層本身從(cong)基底(di)上剝離。接著我(wo)們把30-40微(wei)米的(de)(de)涂(tu)層切(qie)成‘小塊磚’,這些可以用作電信應用中光(guang)(guang)(guang)纖段之(zhi)間的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)濾(lv)(lv)波器(qi)。成為過(guo)濾(lv)(lv)器(qi)的(de)(de)涂(tu)層材料(liao)通常是硅(gui)、鉿、鉭和(he)鈦(tai)的(de)(de)氧(yang)化(hua)物(wu)的(de)(de)組合。”
“插入‘小(xiao)塊磚’比試圖覆蓋光纖(xian)的(de)末端更好(hao)(hao)、更容易。傳統的(de)電信光纖(xian)接頭(tou)由涂層(ceng)光纖(xian)末端制成,接頭(tou)處的(de)損(sun)耗也相對較(jiao)高(gao)(gao),因(yin)此(ci)使用我(wo)們的(de)瓷(ci)磚作(zuo)為光學濾波(bo)器效率(lv)更高(gao)(gao)。LZH是極少(shao)數能(neng)夠做到這一點的(de)公司之一,我(wo)們的(de)方法既能(neng)實現(xian)更好(hao)(hao)的(de)質量(liang)控制,又(you)能(neng)實現(xian)大規模生產。”
LZH還在進行另一個相關項目,將這種涂層直接沉積到光纖的末端,而不會失去涂層腔中的真空空間。這一操作的挑戰點在于在長達幾米的光纖內,做到涂層只是覆蓋光纖的末端,而不是整個光纖部分。
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