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拓荊科技:擬以9.3億元投建半導體先進工藝裝備研發與產業化項目

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  • 添加日期:2022年10月08日

日前,拓荊科技表示公(gong)(gong)告(gao),公(gong)(gong)司擬(ni)使用超募資金(jin)9.3億(yi)元(yuan)用于(yu)半導體(ti)先進工(gong)藝裝備研發與產業化項目建設。

據拓(tuo)荊科技表示,項目將(jiang)在上海市自由(you)貿(mao)易試驗(yan)區(qu)臨港新(xin)片區(qu)建設研(yan)發與產業化基地(di),用(yong)于先(xian)進(jin)ALD設備及(ji)工藝的(de)研發,并實現以(yi)臨(lin)港(gang)為中(zhong)心客戶群(qun)所需半導(dao)體設備的(de)產業化(hua)。此項(xiang)目的(de)實施(shi),將助推(tui)公司(si)(si)業務規(gui)模的(de)持(chi)續增長,同時也(ye)有助于公司(si)(si)不斷加強自(zi)身在細分領域的(de)競爭優勢,始終保(bao)持(chi)業內(nei)領先地(di)位(wei)。

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項目通過布(bu)局半(ban)導體(ti)先進工(gong)藝(yi)裝(zhuang)備的研發與(yu)產(chan)業化(hua),以(yi)滿足集(ji)(ji)成電路(lu)晶圓制造產(chan)線的需求,有(you)利(li)于推(tui)動集(ji)(ji)成電路(lu)關鍵設(she)備的發展,是(shi)落實國家產(chan)業規劃、實現我(wo)國集(ji)(ji)成電路(lu)產(chan)業鏈高端設(she)備供(gong)給(gei)自主可(ke)控的必要(yao)舉措。

隨著集成電路芯片(pian)技術的迭代(dai)升級,芯片(pian)結(jie)構復雜度不斷提高(gao)(gao),對薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)性能(neng)的要求(qiu)也日益提高(gao)(gao)。這一(yi)趨勢對薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)沉積(ji)設(she)(she)備提出了更高(gao)(gao)的技術要求(qiu),市場對于高(gao)(gao)性能(neng)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)設(she)(she)備的依賴逐(zhu)漸(jian)增加。項目(mu)通過新建研發(fa)及生產環境,在(zai)現有(you)(you)技(ji)術儲備(bei)(bei)的基礎上,研制適用于先進技(ji)術節(jie)點的薄膜沉積設備(bei)(bei),并實(shi)現以臨港為(wei)中心客(ke)戶群所需半導體(ti)設備(bei)(bei)的產業(ye)化,有(you)(you)利于提升產品技(ji)術水平及核(he)心競爭力,并鞏(gong)固行業(ye)領先地位。

隨著半導(dao)體(ti)行業整體(ti)景氣度的提(ti)升(sheng),全球半導(dao)體(ti)設備市(shi)場(chang)呈現(xian)快(kuai)速增(zeng)長態勢,拉動市(shi)場(chang)對薄膜沉(chen)積設備需求的增(zeng)加。Maximize Market Research預計全(quan)球半導體薄(bo)膜沉(chen)積設備市(shi)場規模在2025年將達(da)到340億美(mei)元,2020年(nian)-2025年期間保持年復合13.3%的增長速(su)度。

項目通過布局適用于先進制程領(ling)域的半(ban)導體(ti)設(she)備,可(ke)以進一(yi)步提高邏輯電路(lu)、存儲芯片(pian)等集成(cheng)電路(lu)制造(zao)設(she)備領(ling)域的市場(chang)(chang)份額(e),在即將到來的新興應用領(ling)域及其所(suo)需(xu)高端芯片(pian)的增長(chang)期中(zhong)奪得先機,進而抓住市場(chang)(chang)機遇迅速(su)擴大企業規模。

消息(xi)來源:集微網

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